Search results for "smaka"
showing 2 items of 2 documents
Plasma etch characteristics of aluminum nitride mask layers grown by low-temperature plasma enhanced atomic layer deposition in SF6 based plasmas
2012
The plasma etch characteristics of aluminum nitride (AlN) deposited by low-temperature, 200 °C, plasma enhanced atomic layer deposition (PEALD) was investigated for reactive ion etch (RIE) and inductively coupled plasma-reactive ion etch (ICP-RIE) systems using various mixtures of SF6 and O2 under different etch conditions. During RIE, the film exhibits good mask properties with etch rates below 10r nm/min. For ICP-RIE processes, the film exhibits exceptionally low etch rates in the subnanometer region with lower platen power. The AlN film’s removal occurred through physical mechanisms; consequently, rf power and chamber pressure were the most significant parameters in PEALD AlN film remova…
Dinamiskās olfaktometrijas alternatīvas monitoringa metodes aprobācija un testēšanas rezultātu analīze
2016
Smaku piesārņojums paliek aizvien aktuālāka vides problēma, kas vairumā gadījumu izriet no straujās rūpniecības un lauksaimniecības attīstības apdzīvoto vietu tuvumā. Tā kā smakas tieši ietekmē sabiedrības dzīves kvalitāti, to uzraudzībai tiek pievērsts aizvien vairāk uzmanības. Ņemot vērā subjektivitāti smaku uztverē, tiek meklēti risinājumi aizvien precīzākai smaku piesārņojuma līmeņa noteikšanai. Darba izstrādes ietvaros, tika aplūkotas divas smaku piesārņojuma noteikšanas metodes - dinamiskā olfaktometrija, kura ir plašāk pielietotā smakas koncentrācijas noteikšanas metode, kas nenodrošina nepārtrauktus smakas koncentrācijas mērījumus un raksturo smakas emisiju tikai parauga ņemšanas br…