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Release Studies of Atomic Technetium

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Application of a laser ion source (LIS) is a promising new technique for trace analysis with high efficiency and selectivity. One of the problems which can limit its efficiency attained in practice is the adsorption of sample atoms on the hot walls of the LIS cavity. We have studied the release of atomic technetium from different wall materials at temperatures up to 2500 K. For these investigations resonance ionization of technetium atoms applying a copper vapour pumped dye laser system and γ-spectrometry of 6-h 99mTc have been used. Theoretical calculations of the heat of desorption for technetium on different wall materials are presented and compared with experimental data. Though the results reported concern technetium, most of the considerations are quite general for a laser ion source. Untersuchungen uber die Desorption von atomarem Technetium Der Einsatz einer Laserionenquelle ist ein vielversprechender Weg in der Spurenanalytik, bei der ein hoher Wirkungsgrad und gute Selektivitat erforderlich sind. Der Wirkungsgrad kann durch Adsorption des Probenmaterials an den heisen Wanden der Laserionenquelle verringert werden. Wir haben die Freisetzung des atomaren Technetiums von verschiedenen Wandmaterialien bei Temperaturen bis zu 2500 K untersucht. Hierzu wurde die Resonanzionisation des Technetiums mit einem Kupferdampflaser gepumpten Farbstofflasersystem sowie die γ-Spektrometrie an 6-h 99mTc eingesetzt. Die theoretisch berechneten Desorptionsenergien des Technetiums an verschiedenen Wandmaterialien werden angegeben und mit den experimentellen Daten verglichen. Obwohl die Untersuchungen nur Technetium betreffen, gelten die meisten Betrachtungen ganz allgemein fur eine Laserionenquelle.