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RESEARCH PRODUCT

Divalent metal ion buffers with low pH-sensitivity

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Es werden Puffersysteme fur divalente Metallionen beschrieben, die im Bereich von etwa pH 6–10 gegenuber den herkommlichen Metallpuffern eine bemerkenswert niedrige pH-Abhangigkeit der Metallionenkonzentration und der Pufferkapazitat zeigen. Die Puffersysteme bestehen aus einem starken Komplexbildner (vorzugsweise einer Polyaminocarbonsaure) und zwei verschiedenen, divalenten Metallionen, die bezuglich der Bindung durch den Komplexbildner in Konkurrenz stehen. Dasjenige Metallion, dessen Konzentration gepuffert werden soll, wird als Primarion bezeichnet. Das zweite Ion, das Sekundarion genannt wird, soll vom Komplexbildner mindestens um den Faktor 10–100 schwacher gebunden werden. Die Gesamtkonzentration des Primarions ist geringer als diejenige des Komplexbildners, wahrend die Summe der Gesamtkonzentrationen der beiden divalenten Metallionen hoher ist als diejenige des Komplexbildners. Die Konzentration des freien Primarions kann in den beschriebenen Puffersystemen auf drei verschiedene Arten variiert werden: 1. durch Anderung der Gesamtkonzentration des Primarions, 2. durch Anderung der Gesamtkonzentration des Sekundarions, und 3. durch die Wahl eines passenden Komplexbildners mit entsprechenden Metallionen- und Protonendissoziationskonstanten.