0000000000907703
AUTHOR
Eduards Gavars
SiO2 stikla virsmas parametru mērījumi ar mikroskopijas metodēm
Šajā bakalaura darbā tiek pētīta dažādu apstrādes veidu ietekme uz SiO2 stikla virsmu. Tika ņemtas piecas dažādi apstrādātas augstfrekveņču bezelektrodu lampas. Pirmā lampa bija bez jebkādas apstrādes, otra un trešā tika ķīmiski apstrādātas ar tekilu un spirtu, ceturtā un piektā tika apstrādātas ar Ar un Se, un Ar un As plazmu. No lampām tika iegūti stikla virsmas paraugi. Attiecīgi to virsmas tika pētītas ar atomspēku mikroskopu (AFM) un rezultāti apstrādāti ar datu apstrādes programmatūru. Rezultātā tika iegūti dati par piecu dažādu apstrādes veidu ietekmi uz stikla virsmu un tās parametriem. Mērījumus ir iespējams apskatīties 2D, 3D un tabulas veidā ar raksturīgajiem parametriem. Būtiskā…
Measurements of SiO2glass surface parameters by methods of microscopy
In this research we compare chemical and plasma treatment methods for surface of SiO2 glass. For chemical treatment of surface tequila and alcohol were used but for plasma treatment - Ar+As and Ar+Se plasmas. Surface topography was analyzed using atomic force microscope. Comparison of chemical and plasma treatment methods shows that surface treated with plasma is smoother. Because of their various chemical compositions tequila and alcohol show different results.