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RESEARCH PRODUCT
Les premiers instants de la croissance de films minces d'oxydes métalliques par MOCVD : Etude in situ de l'interface TiO2/Si par XPS-ARXPS.
A. Brevet O. Heintz R. Chassagnon L. Imhoff M.-c. Marco De Lucas B. Domenichini S. Bourgeoissubject
stomatognathic diseasesInformationSystems_MODELSANDPRINCIPLESComputingMilieux_THECOMPUTINGPROFESSIONGeneralLiterature_INTRODUCTORYANDSURVEYComputingMilieux_COMPUTERSANDEDUCATIONdescription
Communication orale
| year | journal | country | edition | language |
|---|---|---|---|---|
| 2006-04-03 |